ASTM F 518-1977 测定在蚀刻期间光致抗蚀剂同硬表面光掩膜坯及半导体片的有效粘附性

作者:标准资料网时间:2024-05-05 05:54:35 浏览:8481 来源:标准资料网

【英文标准名称】:DeterminingEffectiveAdhesionofPhotoresisttoHard-SurfacePhotomaskBlanksandSemiconductorWafersDuringEtching
【原文标准名称】:测定在蚀刻期间光致抗蚀剂同硬表面光掩膜坯及半导体片的有效粘附性
【标准号】:ASTMF518-1977
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:1977
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:粘附;蚀刻;半导体器件;电子工程;表面;光刻蚀加工;光掩膜;工艺
【英文主题词】:surfaces;adhesion;electronicengineering;etching;processes;photomask;wafers;photoresistprocess;semiconductordevices
【摘要】:
【中国标准分类号】:H81
【国际标准分类号】:87_040;29_040_30
【页数】:5P;A4
【正文语种】:英语

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